AbstractsChemistry
Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2
| Institution: | Brno University of Technology |
|---|---|
| Department: | |
| Year: | 0 |
| Keywords: | a-SiC:H; a-SiCO:H; Tetravinylsilane (TVS); plazmochemická depozice z plyné fáze (PECVD); tenké vrstvy; elipsometrie; Fourierovsky transformovaná infračervená spek-trometrie (FTIR); a-SiC:H; a-SiCO:H; Tetravinylsilane (TVS); Plasma enhanced chemical vapor deposi-tion (PECVD); thin film; ellipsometry; Fourier transformed infrared spectrometry (FTIR) |
| Record ID: | 1097878 |
| Full text PDF: | http://hdl.handle.net/11012/23373 |
Abstract
Tato studie je zaměřena na základní výzkum přípravy a-SiC:H a a-SiCO:H slitin plazmových polymerů pomocí metody plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD). Tyto slitiny byly připravovány depozicí z monomeru tetravinylsilanu (TVS) a jeho směsí s kyslíkem a argonem při různých efektivních výkonech pulzního plazmatu. Připravené tenké vrstvy byly za účelem získání závislostí optických, mechanických a chemických vlastností na depozičních podmínkách zkoumány pomocí metod spektros-kopické elipsometrie (ELL), nanoindentace (NI), fotoelektronové spektrometrie (XPS) a Fourierovy transformované infračervené spektrometrie; This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.
